洁净室的温度和湿度控制问题

洁净室的温湿度控制。洁净实验室高效安全的手术室空气净化系统，保证手术室的无菌环境，可以满足器官移植、心脏、血管、人工关节置换等手术所需的高度无菌环境。采用高效低毒消毒剂，以及合理使用，是保障一般手术室无菌环境的有力措施。实验室净化确保手术台洁净度达标，一般多采用垂直层流式效果较好　层流手术室是一个"正压"环境，其空气压力根据其不同区域（如手术间、无菌准备间、刷手间、麻醉间和周围干净区域等）洁净度不同要求而不同。洁净空间的温度和湿度主要根据工艺要求确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑人们的舒适性。随着空气洁净度要求的提高，对温湿度的要求也越来越严格。

具体工艺的温度要求将在后面列出，但作为一般原则，由于加工精度越来越精细，对温度波动范围的要求越来越小。例如，在大型集成电路产生的光刻曝光过程中，对玻璃和硅片作为掩模板材料的热膨胀系数的要求越来越小。直径100um的硅芯片，温度增加1度，造成0.24um线性膨胀，因此必须有0.1度的恒定温度，同时需要一般低的湿度值，因为出汗后，产品会受到污染，尤其是害怕钠的半导体工场。这种车间不得超过25度。

高湿度的问题更多。当相对湿度超过55%时，如果发生在精密装置或电路中，冷却水壁上的凝结会引起各种事故。相对湿度在50%时容易生锈。此外，当湿度过高时，硅片表面化学吸附的灰尘通过空气中的水分子很难去除。相对湿度越高，去除胶粘剂的难度越大，但当相对湿度小于30%时，由于静电的作用，颗粒很容易吸附在表面，大量的半导体器件容易分解。硅片生产的最佳温度范围为3545%。